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為高精度非接觸式光學測量儀器,采用白光干涉技術實現亞納米級表面形貌檢測與分析,廣泛應用于微納結構表征、薄膜厚度測量及精密元件表面質量評估。
光學膜表面光學結果
5um凹槽深度,顯示屏幕表面缺陷分析
675nm臺階蝕刻臺階
Ra=0.597nm CMP拋光后晶圓表面粗糙度
20um凹槽深度及面型分析
凸點形貌測量
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