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2024

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科普分享|雙重與多重圖形技術

雙重圖形技術是將193nm浸沒式光刻延伸至關鍵尺寸<=45nm的芯片制造關鍵技術。與非線性雙重曝光技術不同，雙重圖形技術不存在材料與產率方面的問題，已廣泛...

03

2024

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07

科普分享|低成本光刻技術之激光直寫光刻

低成本光刻主要指的是無需投影成像的光刻技術，如掩模接近式光刻，激光直寫光刻，無衍射極限的光學光刻等。盡管這些技術的產率、分辨率和工藝控制能力普遍低于DUV和EU...

03

2024

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07

芯聞動態(tài)|Omdia研究發(fā)現(xiàn)，半導體市場因需求疲軟而出現(xiàn)季度...

來源：內容來自Omdia 摘要 根據(jù)Omdia的最新的半導體總體競爭工具（Competitive Landscaping Tool）顯示，2...

27

2024

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06

公司組織開展職業(yè)病防治培訓以及應急救護、消防應急演練

保護員工身心健康，預防職業(yè)病為深入宣傳貫徹《職業(yè)病防治法》，進一步普及職業(yè)病防治知識，提高員工自我防護意識和能力，公司針對職業(yè)病防治知識對員工進行專題培訓。參訓...

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